產(chǎn)品簡介

    目前高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無法實(shí)現(xiàn)溫度的高精/度測量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象，華測儀器研究開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)高jing度，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時(shí)，具有良好的溫度分布?？蓪?shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護(hù)加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空，高出純度氣體中加熱，設(shè)備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。

    它提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰?。同電阻爐和其他爐相比，高溫快速爐/紅外鏡面反射爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間，再試驗(yàn)中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講，都節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。

    同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系統(tǒng)**可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率，實(shí)現(xiàn)溫度控制操作！

反射鏡是具有高稍度曲率，采用5軸加工系統(tǒng)加工，以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測試。

產(chǎn)品優(yōu)勢

高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時(shí)爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。

溫度高精/度控制
過紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用，可以精/確控制樣品的溫度。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精/度。
不同環(huán)境下的加熱與冷卻
加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng)），操作簡單支持遠(yuǎn)程協(xié)助系統(tǒng)，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室

用途：工礦企業(yè)、高校、研究所等做高溫?zé)Y(jié)、金屬退火、質(zhì)量檢測。粉末冶金行業(yè)以及義齒加工行業(yè)的烘烤、氧化鋯盤預(yù)燒結(jié)等。根據(jù)加熱區(qū)大小，進(jìn)行小試，中試，批量生產(chǎn)。