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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱(chēng):近紅外加熱爐/分段分區(qū)控制爐

  • 產(chǎn)品型號(hào):HC系列
  • 產(chǎn)品廠(chǎng)商:華測(cè)
  • 產(chǎn)品價(jià)格:0
  • 折扣價(jià)格:0
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簡(jiǎn)單介紹:
近紅外加熱爐是華測(cè)公司通過(guò)多年研究開(kāi)發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)高精度,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置,在高速加熱高速冷卻時(shí),具有良好的溫度分布??蓪?shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護(hù)加熱式樣,無(wú)氣氛污染。可在高真空,高出純度氣體中加熱。
詳情介紹:

紅外加熱

    近紅外加熱爐是華測(cè)公司通過(guò)多年研究開(kāi)發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)高精度,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置,在高速加熱高速冷卻時(shí),具有良好的溫度分布。可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護(hù)加熱式樣,無(wú)氣氛污染。可在高真空,高出純度氣體中加熱。

一、近紅外加熱產(chǎn)品簡(jiǎn)介

    目前高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐,原理為加熱絲或硅碳棒對(duì)爐體加熱,加熱與降溫速度慢,效率低下,也無(wú)法實(shí)現(xiàn)溫度的高精度測(cè)量,加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象,華測(cè)儀器通過(guò)多年研究開(kāi)發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)高精度,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置,在高速加熱高速冷卻時(shí),具有良好的溫度分布。可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護(hù)加熱式樣,無(wú)氣氛污染??稍诟哒婵眨叱黾兌葰怏w中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。

    它提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰?。同電阻爐和其他爐相比,紅外線(xiàn)反射爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間,在試驗(yàn)中也可改寫(xiě)設(shè)定溫度值。節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。

    同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單,有冷卻系統(tǒng)an全可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率,實(shí)現(xiàn)溫度控制操作!


 

二、產(chǎn)品特點(diǎn)

溫度控制器

    溫度控制器采用先進(jìn)移相觸發(fā)技術(shù)、控制近紅外爐按設(shè)定的升溫速度進(jìn)行升溫和降溫??赏ㄟ^(guò)上位機(jī)進(jìn)行不同的升溫速率進(jìn)行設(shè)定。


 

制冷循環(huán)機(jī)

    為實(shí)現(xiàn)爐體快速降溫以及提高試驗(yàn)效率高溫爐配置制冷水循環(huán)系統(tǒng),同時(shí)增設(shè)氣體冷卻裝置,可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。


 

三、產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)及不同的組合

*高速加熱與冷卻方式

    高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時(shí)爐體可配置水冷系統(tǒng),增設(shè)氣體冷卻裝置,可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。

*溫度高精度控制

    近紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用,可以精que控制樣品的溫度。此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精度。

*不同環(huán)境下的加熱與冷卻

    加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫(高純度惰性氣體  靜態(tài)或流動(dòng)),操作簡(jiǎn)單,使用石英玻璃制成。紅外線(xiàn)可傳送到加熱/冷卻室。

四、反射爐溫度控制裝置原理

    高速升溫時(shí),配套快速反應(yīng)的紅外線(xiàn)反射爐控制裝置,本控制裝置采用可編程溫度控制器。高性能緊湊設(shè)計(jì),響應(yīng)速度快、溫控精度高。為了高速加熱、設(shè)備采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試驗(yàn)溫度;

根據(jù)設(shè)備上的溫度控制器輸入?yún)?shù),您也可以簡(jiǎn)單輸入溫度程序設(shè)定和外部信號(hào)。另外還可以在電腦上顯示加熱過(guò)程中的溫度實(shí)時(shí)數(shù)據(jù);

    自適應(yīng)熱電偶包括JIS、K、JT、E、N、RS、B、以及L、U、W型;?zui大可設(shè)定32個(gè)程序、256個(gè)步驟的程序;

    30A、60A120A內(nèi)置了SCR電路,所以范圍很廣;

    250mmX50mmDX50mmH小巧尺寸。

 

五、近紅外加熱產(chǎn)品應(yīng)用

電子材料

半導(dǎo)體用硅化合化的PRA(加熱后急速冷卻)

熱源薄膜形成

激活離子注入后

硅化物的形成

陶瓷與無(wú)機(jī)材料

陶瓷基板退火爐

玻璃基板退火爐

陶瓷張力、撓曲試驗(yàn)退火爐

鋼鐵和金屬材料

薄鋼板加熱過(guò)程的數(shù)值模擬

爐焊接模擬

高真空熱處理(1000℃以下)

大氣氣體熔化過(guò)程

壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐

復(fù)合材料

耐熱性評(píng)價(jià)爐

無(wú)機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐

其它

高溫材料電性能試驗(yàn)爐

分段分區(qū)控制爐

溫度梯度爐

爐氣分析

超導(dǎo)陶瓷退火爐

高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐

 


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